蒸發(fā)臺是在高真空下，采用電阻式蒸發(fā)原理，利用大電流在蒸發(fā)舟上加熱所蒸鍍材料， 使其在高溫下熔化蒸發(fā)，從而在樣品上沉積所需要的薄膜。通過調節(jié)所加電流的大小，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率。通常適合熔點低于1500oC的金屬薄膜的制備。

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