離子注入決定芯片內部結構中器件的基礎性能。離子注入屬于物理過程，依靠調節(jié)劑量、射程、注入角度等三大重要參數(shù)，準確控制摻雜并實現(xiàn)數(shù)量與質量的可控，通過入射離子與靶材原子的電子阻礙和核阻礙等能量損耗機制達成靶材內的駐留。

離子注入設備包含5個子系統(tǒng)和6大核心零部件。離子注入機的5大子系統(tǒng)分別為：氣體系統(tǒng)、電機系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和射線系統(tǒng)，其中射線系統(tǒng)為核心系統(tǒng)。離子注入機的6大核心零部件主要包括離子源、吸極、離子分析器、加速管、掃描系統(tǒng)、工藝腔等部件。

注入機離子源配件做為注入機主要的配件，由于國內供應商的產(chǎn)品質量參差不齊，價格不統(tǒng)一，售后服務不好等原因，選擇一家的注入機離子源配件生產(chǎn)廠家，尤為重要，丹東正芯微電子科技有限公司是一家生產(chǎn)、加工各種注入機離子源配件的高新民營企業(yè)。主營注入機、濺射臺、蒸發(fā)臺等半導體設備核心配件及相關系列配件。

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